Hardware- und Softwareentwurf einer Maschine zur Prozesssteuerung

Halbleiter werden aus Stoffen mit mehreren Schichten zusammengefügt. Je präziser man die Schichtübergänge fertigen kann, desto genauer kann man das Verhalten des Bauteiles voraussagen. Atomic Layer Deposition (ALD) ist ein Verfahren, um ein Gas zur chemischen Reaktion zu bringen und dabei diese Schicht zu verändern. Im speziellen Beispiel soll auf ein Werkstück eine Atomlage Aluminium aufgebracht werden, damit das Alumium im nächsten Schritt mit Sauerstoff reagiert. Es ensteht ein Stück Silizium mit einer Lage Aluminiumoxid. Aluminiumoxid ist ein Nichtleiter und das entstehende Bauteil nennt sich MOSFET (Metall Oxide Semiconductor Field Effect Transistor).

HEck packt noch eine Menge Elektrotechnikwissen oben drauf und erklärt, was an der Maschine austauschbedürftig war, was er entworfen hat und das ganze Verfahren drum herum.